3分钟粗糙度降至2.6nm
用于铜电化学抛光，可在3分钟内将表面粗糙度从83.5nm降至2.6nm，优于传统复杂电解液。
张鑫泉 · Jingtian, Ye · Zhang, Yongjie · Yuxi, Xiao · 杨军 · 邓辉
Surfaces and Interfaces 2025
仅需3分钟即可将粗糙度从83.5 nm降至2.6 nm，大幅缩短加工时间。
仅使用硫酸和甲醇两种常见试剂，避免了传统复杂电解液体系。
提出新的抛光模型，明确钝化膜生成与去除速率差异是实现平坦化的关键。