低静电感度高能
通过改进的镁热还原法以介孔二氧化硅为模板制备，平均粒径18 nm，活性含量85%，燃烧性能优异且静电感度极低。
Xinwen, Ma · Weiduo, Fei · Liu, Jiaming · Zhang, X. · 季洁 · 周翔 · Zhang, Xiandie
Chemical Engineering Journal 2024
化学计量比 h-Si/KClO₄ 的最小点火能量超过 100 mJ，而常规纳米铝仅约 2 mJ，可大幅降低因静电导致的意外引燃风险。
与市售纳米硅相比，h-Si/KClO₄ 具有更低的反应起始温度、更高的放热量和更低的反应活化能，表明其作为燃料的反应性更强。
在富燃料状态下，h-Si/KClO₄ 表现出优异的点火和燃烧特性，有利于在贫氧或高金属含量配方中使用。
改进的镁热还原法避免了使用氢氟酸（HF），且对副反应有显著抑制，工艺简单、环境友好。