浓度调控MACE系统

传质系数最高增6.72倍

一种浓度可控的金属辅助化学蚀刻系统，首次实现大面积均匀高深宽比可弯曲硅纳米孔阵列的制备。

Jiecai, Long · Xuan, Zhang · Haojun, Zhang · Haoya, Wang · Congkai, Xie · 陈桪 · Lin, Guohuai · 陈云 · 陈新 · Huitao, Liu · 鲁仁全

Chemical Engineering Journal 2025

参数信息

传质系数提升倍数

6.72 ×

硅纳米孔蚀刻速率提升

27.78 %

孔径

600 nm

技术优势

传质效率倍增

传质系数比传统MACE提高1.51至6.72倍，反应物传输更快更均匀。

蚀刻速率提升

硅纳米孔蚀刻速率提高约27.78%，缩短加工时间，提高生产率。

首次实现可弯曲阵列

首次制备出大面积、均匀、高深宽比且可弯曲的硅纳米孔阵列，为新型器件结构提供可能。

应用场景

• 硅基微纳加工：提供均匀可控的纳米孔阵列，替代传统蚀刻工艺。
• 纳米压印模板：高深宽比、可弯曲结构适合制作复杂压印模板。
• 生化传感器基底：大面积均匀纳米孔增加比表面积，提高传感器灵敏度。
• 光子晶体：可控的周期性纳米孔阵列可用于光子晶体结构。