激光直写Au纳米结构

免掩模亚波长直写

无需掩模或真空，通过激光照射SNOM探针在Au纳米膜上实现超越衍射极限的稳定直写。

王学文 · 梅雪松 · Yin, Hailong · 王志军 · He, Xiao Qiao · 崔健磊

Engineering 2025

具体参数

最小特征线宽

{'zh': '83.6', 'en': '83.6'} nm

稳定复现线宽

{'zh': '167.8', 'en': '167.8'} nm

技术优势

突破衍射极限

在Au纳米膜上直写出约83.6 nm（< λ/6）的线宽，超越了传统光学的衍射极限。

免掩模与真空

在无掩模、无真空的气氛下即可完成直写，简化了工艺并降低成本。

稳定复现

可稳定复现线宽(167.8 ± 6.6) nm，表现出良好的长期稳定性和可重复性。

原位检测

直写完成后可通过AFM进行原位形貌检测，便于实时质量监控。

应用场景

• 纳米制造：用于无掩模直写亚波长金属纳米结构，简化加工流程。
• 纳米光刻：提供超越衍射极限的直写光刻手段，无需掩模或真空。
• 光子器件加工：可实现光子器件中亚波长金属结构的精确加工。
• 亚波长结构：直接制造亚波长尺寸的金属图形，满足纳米光学需求。