0.34 V/μm 超低开启场
竹节形貌、有序阵列与Al掺杂协同,同时实现低开启场和高发射稳定性。
Hengxu, Wu · 肖志明 · 侯茂祥 · Ma, Li · 陈云 · 陈新
ACS Applied Materials & Interfaces 2026
竹节状尖端、有序阵列与Al掺杂的协同效应使开启场降至0.34 V/μm。
连续工作12小时电流波动仅1.3%,满足长时间工作需求。
电化学刻蚀形成尖锐竹节状尖端和有序阵列,Al掺杂降低带隙、增加局域态密度,两者共同增强电子发射。
综合性能超越此前报道的SiC发射体,为同时实现低开启场和高稳定性提供了可行策略。