高分辨率无掩模图案
利用光固化过程中纳米粒子受控分离，一步形成可编程的高分辨率结构色图案，无需掩模或多墨水配方。
Li-Li, Yang · Yujie, Peng · 王哲 · 王卫 · 王岳川 · 肖明
Nature Communications 2026
光固化过程中纳米粒子向透氧基底迁移形成有序层，直接得到结构色图案，免去掩模和多墨水步骤。
通过灰度数字光处理打印控制局部固化速率，从而调控偏析层厚度，实现高分辨率图案的精确设计。
偏析结构同时改变中红外反射率，使同一材料可用于红外伪装，扩展了功能。