近原子级表面
采用中性环保配方，避免传统强酸强碱或危险化学品深度参与，为钛合金CMP提供超光滑低损伤表面。
Jinwei, Liu · Liyun, Liu · Peng, Zhang · Yupeng, He · 余德平 · Xiao, Chen
ACS Sustainable Chemistry & Engineering 2024
浆料为中性且环保，抛光过程不需要强酸、强碱或危险化学品深度参与，对操作人员和环境更友好。
仅添加150 mmol/L K2SO4和10 wt% H2O2即可获得Sa≤1 nm的超光滑表面，满足高精密应用需求。
K2SO4使双电层有效厚度降至0.56 nm，增强化学腐蚀与机械磨损的协同作用，实现更高效的抛光。