缺陷钝化,效率跃升
与传统CABI器件不同,通过KCl界面层实现离子缺陷钝化,抑制铜空位导致的非辐射复合。
Jin, Zhixin · Xinjie, Wang · 宋平 · 郭得峰 · 李远征 · 刘为振 · 张鹏
Small 2026
KCl埋入界面层有效钝化铜空位缺陷
结合深度分辨化学分析与DFT计算揭示缺陷机制