低剂量高效阻垢
通过分子动力学揭示阻垢机制,并开发强化阻垢技术,显著降低阻垢剂用量并提高阻垢率
Yulun, Xiao · Dajun, Ren · Tengfei, Liu · Zhen, Wang · Ruan, Min · Jun, Xu · 张淑琴 · 张晓庆 · 龚香宜 · 陈旺生 · 王宝山
Journal of Applied Polymer Science 2025
通过强化阻垢技术,可以在减少阻垢剂用量的同时实现高阻垢率,碳酸钙阻垢率达93.1%,硫酸钙达97.67%。
分子动力学模拟揭示TPEG-IA-AMPS占据方解石和石膏晶体的活性生长位点,抑制晶面生长,从而阐明阻垢机理。