TPEG-IA-AMPS三元共聚物阻垢剂

低剂量高效阻垢

通过分子动力学揭示阻垢机制,并开发强化阻垢技术,显著降低阻垢剂用量并提高阻垢率

Yulun, Xiao · Dajun, Ren · Tengfei, Liu · Zhen, Wang · Ruan, Min · Jun, Xu · 张淑琴 · 张晓庆 · 龚香宜 · 陈旺生 · 王宝山

Journal of Applied Polymer Science 2025

具体参数

碳酸钙阻垢率
{'zh': '93.1', 'en': '93.1'} %
硫酸钙阻垢率
{'zh': '97.67', 'en': '97.67'} %

技术优势

低剂量高效阻垢

通过强化阻垢技术,可以在减少阻垢剂用量的同时实现高阻垢率,碳酸钙阻垢率达93.1%,硫酸钙达97.67%。

机理清晰

分子动力学模拟揭示TPEG-IA-AMPS占据方解石和石膏晶体的活性生长位点,抑制晶面生长,从而阐明阻垢机理。

应用场景