石墨水基纳米流体静电雾化模型

−10 kV下雾化更优

一种模拟不同电压下石墨水基纳米流体静电雾化形成过程的仿真模型，可直观展示锥射流形成与破碎行为。

74708488 · 苏宇 · 74708060

2024

参数信息

最佳雾化电压

-10 kV

技术优势

雾化过程看得见

通过三维体积分数图直观展示锥射流的形成与液滴破碎，无需进行实验即可观察内部机制。

−10 kV 雾化最好

在该电压下石墨水基纳米流体的锥射流形成更快，射流尖端液滴破碎彻底，雾化效果更佳。

电压调控雾化

液滴形成速度随电压升高而增加，因此可通过调节电压控制雾化过程。

应用场景

• 微流控雾化：用仿真优化微通道内雾化参数，缩短设计周期。
• 静电喷雾：直接观察锥射流形成，指导电喷雾实验条件选择。
• 喷雾冷却：通过电压调控雾化效果，改善喷雾冷却的液滴分布。