多层硅化物陶瓷涂层

1200°C 120h 仅 128μm 氧化层

通过多颗粒/多层协同设计,实现界面匹配和稳定氧化鳞,显著提升铌合金高温抗氧化性能。

Ye, Zhiyun · 王树奇 · 邹永纯 · 陈国良 · Zhao, Xinrui · 文磊 · Zhang, Guangxi · Lina, Zhao · Wang, Yaming · 周玉

Chemical Engineering Journal 2024

参数信息

氧化层厚度
128 μm
抗烧蚀温度
1800 ℃

技术优势

氧化层更薄

在 1200 ℃ 氧化 120 h 后,氧化层厚度仅为 128 μm,远低于传统 NbSi₂ 涂层的 192 μm(100 h)。

抗烧蚀温度高

涂层在 1800 ℃ 以上短时氧乙炔烧蚀后结构完整,可承受极端高温气流冲刷。

界面匹配好

原位生成的 Nb₂O₅-SiO₂ 中间层提供了良好的界面匹配,缓解层间热失配应力。

应用场景