效率9.64%
有意插入的超薄MoS₂层优化Mo/CZTSSe界面,降低复合,提升器件性能。
Xu, Zhen · 姚斌 · 李舸 · 丁会 · Deng, Rui · Heng-Nan, Liang · Du, Bo · 李永峰
ACS Applied Materials & Interfaces 2024
并联电阻由约395 Ω·cm²增至约634 Ω·cm²,漏电流减小,有利于填充因子和开路电压的提升。
插入MoS₂后,吸收层呈现连续致密形貌,晶粒更大,表面和截面均无明显针孔。
MoS₂修饰器件的J₀有效降低,表明界面复合得到抑制,二极管特性改善。
通过优化MoS₂层的厚度,可以系统地调节Mo/CZTSSe界面质量和器件性能。