压电芬顿抛光液

超光滑亚纳米表面

压电驱动芬顿反应原位软化两相材料,碳化硅与硅相硬度差被拉平,抛光后几乎无相界台阶。

肖峻峰

Journal of Materials Processing Technology 2026

参数信息

Sa
0.887 nm
SiC Sa
0.158 nm
损伤层厚度
2.993 nm
材料去除率
5.001 μm/h