掺钨氧化铟镨薄膜

增强NBIS稳定性

通过钨掺杂优化氧空位分布，这种薄膜在保持高透明度的同时显著提升了薄膜晶体管在负偏压光照应力下的稳定性。

Yang, Yuexin · 宁洪龙 · Dongxiang, Luo · 徐卓辉 · 方志强 · 徐维 · Zihan, Zhang · Bocheng, Jiang · 姚日晖 · 彭俊彪

Surfaces and Interfaces 2024

具体参数

Transmittance

>90 %

饱和迁移率

5.4 cm²/Vs

阈值电压漂移

-2.1 V

技术优势

开关比8.0×10⁵