掺铜KTN单晶

大电致应变

通过Cu掺杂引入可逆畴切换,在无铅压电晶体中实现高电致应变。

Zhang, Yuanyuan · Zhang, Huadi · Qiu, Chengcheng · 张锐 · 郑立梅 · Yang, Yuguo · 王旭平 · 王继扬

ACS Applied Materials & Interfaces 2025

具体参数

单极应变
0.32 %

技术优势

应变大幅提升

0.36 wt% Cu掺杂的KTN晶体在15 kV/cm电场下实现0.32%的单极应变,为KTN晶体已报道最高值之一。

畴可逆切换

Cu掺杂产生的极化缺陷偶极子提供恢复力,使电场撤去后畴结构可逆恢复,从而获得大应变和双电滞回线。

应用场景