水热硒化锑缓冲层

3.33% 的 GeSe 电池

该缓冲层通过水热法低温生长,实现了超薄、均匀致密且无杂质的界面,显著提升了GeSe太阳能电池性能。

Zhou, Jing · Shengwen, Yang · Li, Gao · Zhenming, Qu · 曹宇 · 于晓明 · 余璇 · 倪牮 · 张建军

Solar Energy Materials and Solar Cells 2025

具体参数

最高效率
{'zh': '3.33', 'en': '3.33'} %
缓冲层厚度
{'zh': '8', 'en': '8'} nm

技术优势

膜厚仅 8 nm

通过水热法的缓慢生长动力学,精确控制缓冲层厚度降至约 8 nm,减少寄生吸收。

界面优于蒸镀法

水热生长的 Sb₂Se₃ 缓冲层使器件界面特性优于传统近空间升华法,且效率相当。

无杂质致密膜

优化 Se/Na₂SO₃ 摩尔比为 1:6 时,获得平滑、均匀、致密且无 Sb₂O₃ 杂质的缓冲层。

应用场景