紫外臭氧改性Y₂O₃抛光片

可逆调控原子级去除

通过紫外/臭氧处理在表面形成可逆色心，实现Y₂O₃基底的原子级去除，同时保持亚表面完整、成分与物相不变，为非破坏性原子级精密抛光提供新途径。

刘金伟 · Liyun, Liu · Dawei, Liu · 武韩强 · 余德平 · Baranowska, Jolanta · Franklin, Steven E. · Xiao, Chen

Tribology International 2026

技术优势

原子级去除可控

紫外/臭氧处理产生的色心在机械应力下促进Y–O–Al界面键形成，实现Y₂O₃基底的原子级去除。

亚表面不受损

去除过程中亚表面完整，且化学成分和物相结构保持不变。

可逆调控活性

色心形成可逆，表面机械化学活性降低后难以发生纳米级磨损，可在需要时恢复去除能力。

应用场景

• 原子级抛光：实现原子级去除且不损伤亚表面，用于超光滑表面加工。
• 精密表面加工：提供非破坏性抛光路径，满足高精度表面要求。
• 光学元件制造：保持成分与相结构不变，避免光学性能退化。
• 半导体衬底加工：可逆调控去除活性，适用于精密衬底加工。