CuCrZr合金多孔结构

表面粗糙度显著降低

等离子电解抛光处理可有效去除SLM成形CuCrZr多孔结构表面粘附的未熔化粉末,在保持力学性能的同时大幅改善表面质量。

Kuai, Zezhou · 张鹏飞 · Wu, Huarong · 李忠华 · Bin, Liu · Chao, Suo · Yang, Zhicheng · Ren, Jie

Journal of Materials Research and Technology 2025

参数信息

IWP结构支撑杆断裂时间
32 min
SP结构未损伤最长抛光时间
42 min

技术优势

有效去除粘粉

等离子电解抛光能够清除SLM成形CuCrZr多孔结构表面大量未熔化粉末,改善表面质量。

保持力学性能

抛光处理在显著降低表面粗糙度的同时,并未明显改变多孔结构的准静态行为。

应用场景