掺氩硅红外吸收体

禁带波长可传感

通过高剂量氩填充空位形成宽缺陷带,打破硅的带隙限制,实现通信波段红外吸收与n型导电。

陈念科 · Gao, Yuchen · 赵纪红 · 李春好 · 陈岐岱 · 孙宏波 · Zhang, Shengbai · 李贤斌

Advanced Optical Materials 2024

参数信息

氩剂量
10²⁰ cm⁻³

技术优势

突破带隙限制

氩填充空位产生的缺陷带位于带隙深处,使硅在1.31和1.55 µm等原本无法吸收的通信波段产生强红外吸收。

极高剂量保持

即使在氩气中激光处理后1300天,硅中的氩浓度仍高达10²⁰ cm⁻³,远超常规掺杂水平,确保长期可用性。

同时增强导电

同一缺陷带不仅引起红外吸收,还导致n型电导率显著增加,使材料兼具光学与电学功能。

应用场景