微纳气泡增强CMP抛光法

曲面粗糙度3.9 nm

在曲面骨科植入物上实现纳米级粗糙度与抗菌性的协同优化，为金属植入物提供了高效抛光新途径。

Zhun, Luo · 张振宇 · 周红秀 · Miao, Yang · Wang, Yuming · 李盛龙 · Jiatao, Shao · 79661888 · Liu, Zhenghong

Journal of Materials Science and Technology 2026

参数信息

表面粗糙度

3.913 nm

材料去除率

1.421 μm/h

损伤层厚度

4.21 nm

技术优势

曲面也能抛

用定制抛光机和微纳气泡增强浸没式CMP，实现了曲面植入物的纳米级表面。

效率涨五倍

材料去除率提高515%，微纳气泡增强了抛光效率。

抗菌又亲细胞

抛光表面使金黄色葡萄球菌存活率降低13%，同时人骨髓干细胞存活率提高32%。

应用场景

• 精密仪器与测量：该抛光方法可提供纳米级表面，满足精密医疗器械的高要求。
• 增材制造与微纳制造：可用于增材制造金属植入物的后处理，改善曲面光洁度。
• 先进金属与合金：针对316L不锈钢提供专用抛光方案，提升其生物相容性。
• 生物材料与仿生学：抛光同时赋予抗菌性和细胞相容性，适用于生物植入材料。