磁流变剪切增稠抛光液

纳米级表面

一种新型磁流变剪切增稠抛光介质，可直接替代传统抛光液，实现纳米级表面质量。

Ma, Zhen · 田业冰 · 钱程 · Ahmad, Shadab · Fan, Zenghua · Sun, Zhiguang

International Journal of Advanced Manufacturing Technology 2023

参数信息

表面粗糙度Sa

79.0 nm

理论模型与实验平均误差

4.1 %

技术优势

表面质量纳米级

在铝6061工件上实测表面粗糙度Sa为79.0 nm，较原始表面改善超过77%，证明该方法能直接替代传统抛光液实现纳米级表面。

工艺可预测

建立的CFD仿真和材料去除率模型与实验结果平均误差仅4.1%，可用于优化抛光参数，减少试错。

参数关系明确

仿真揭示了抛光压力随工件转速增大而减小、随介质流速增大而增大，剪切应力随转速和流速单调增加的规律，为工艺调控提供依据。

应用场景

• 精密抛光：直接用于金属表面纳米级精修，无需改造现有设备。
• 增材制造后处理：替代手工打磨，快速降低增材件表面粗糙度。
• 微流控芯片抛光：实现微流道内壁纳米级抛光，降低流动阻力。
• 光学元件加工：提供光学表面所需的超光滑加工，替代传统研磨。