铯化钼表面

Li, Heng; Zhang, Xin; Xu, Yuhong; Lei, Guangjiu; Liu, Sanqiu; Tsumori, Katsuyoshi; Haruhisa, Nakano; Osakabe, Masaki; Isobe, Mitsutaka; Shoichi, Okamura; Akihiro, Shimizu; Kunihiro, Ogawa; Hiromi, Takahashi; Cui, Zilin; Hu, Jun; Zhu, Yiqin; Xiaolong, Li; Huaqing, Zheng; Xiaoqiao, Liu; Geng, Shaofei; Chen, Xiaochang; Liu, Haifeng; Wang, Xiangqu; Liu, Hai; Tang, Changjian

铯化钼表面

功函数可调

通过铜或钨杂质调控铯化钼表面的功函数，为优化负离子源性能提供关键表面材料。

Li, Heng · 张辛 · 许宇鸿 · 雷光玖 · 刘三秋 · Tsumori, Katsuyoshi · Haruhisa, Nakano · Osakabe, Masaki · Isobe, Mitsutaka · Shoichi, Okamura · Akihiro, Shimizu · Kunihiro, Ogawa · Hiromi, Takahashi · Cui, Zilin · Hu, Jun · Zhu, Yiqin · Xiaolong, Li · Huaqing, Zheng · Xiaoqiao, Liu · 耿少飞 · 陈小昌 · 刘海风 · Wang, Xiangqu · 刘海 · 唐昌建

Nuclear Materials and Energy 2024

具体参数

钨杂质使表面功函数最大增加: {'zh': '0.50', 'en': ''} eV

技术优势

铜杂质显著提高铯的平均吸附能

在铯覆盖率高于6/16 θ时，高覆盖率铜杂质导致功函数进一步降低

在大多数情况下，杂质显著降低铯化表面的偶极矩密度