开关损耗低四成
高K栅介质优化漂移区电场分布,并降低栅漏电容,实现击穿电压和开关特性的同步提升。
Yao, Jiafei · Zhengfei, Yang · Dai, Yuxuan · Hu, Ziwei · Li, Man · Yang, Kemeng · 陈静 · Zhang, Maolin · 张珺 · Guo, Yufeng
Journal of Semiconductors 2025
FOM (BV²/Ron,sp) 提升110.5%
HFFOM (Ron,sp·Cgd) 降低93.6%