多晶硅沟道垂直晶体管

激活率提升23%

激光热退火让3D NAND闪存的关键晶体管沟道掺杂激活率比常规快速热退火提高至少23%,同时晶粒尺寸分布更均匀,器件阈值电压和亚阈值摆幅分布更集中。

Yang, Tao · 夏志良 · Fan, Dongyu · Zhao, Dongxue · Wei, Xie · Yang, Yuancheng · Liu, Lei · Zhou, Wenxi · 霍宗亮

Micromachines 2023

参数信息

激活率提升
23 %

技术优势

激活率更高

激光热退火比有限温度快速热退火激活率提高至少23%,直接提升沟道导电能力。

晶粒更均匀

增大激光能量密度可使晶粒尺寸均值和标准差同时增大,优化晶粒分布。

电性更稳定

大能量密度下晶粒重新生长,阈值电压和亚阈值摆幅分布收紧,器件一致性更好。

应用场景