高硅钢增材构件

芯损降近四成

以氧化物夹杂与异常晶粒生长在增材制造高硅钢中构筑Goss织构,打破传统电工钢中夹杂物有害的固有认知,实现磁性能的协同优化。

Xiaojun, Shen · Liogas, Konstantinos A. · Verner Soh, Qun Liang · Yung Zhen, Lek · Meng, Fanbo · Shen, Yiming · John E. Huber, John · Reed, Roger C. · Wang, Pei · Korsunsky, Alexander M. · Lee, Christopher H.T.

Materials and Design 2025

参数信息

准静态磁滞损耗
19.02 J/m3
最大磁通密度
1.031 T
动态总芯损
2088.8 J/m3
电阻率
119 μΩcm

技术优势

磁滞损耗降一个数量级

经1000°C退火24小时后,准静态磁滞损耗从206.9 J/m³降至19.02 J/m³,降幅超过90%,源于异常晶粒生长形成的Goss织构。

总芯损降低近四成

动态磁性能测试表明,1000–24样品总芯损为2088.8 J/m³,相比打印态样品的3436.9 J/m³降低了39.2%。

电阻率更高

1000–24样品电阻率达119 μΩ·cm,高于传统电工钢,有利于降低涡流损耗。

应用场景