突破V⁴⁺/V⁵⁺高压壁垒
通过局域电子相互作用同时激活高压V⁴⁺/V⁵⁺氧化还原并稳定结构,实现高度可逆的多电子反应。
Jia, Kang · Siqi, Wang · 朱岭 · Duanfeng, Xiong · Fei-Yang, Teng · Wu, Xiangsi · Zou, Qiuling · Ao, Jiang · Leyi, Zhang · Huang, Yonggang · 王任衡 · 吴显明 · 吴贤文
Journal of Energy Chemistry 2026
循环过程中体积变化仅 1.07%,源于掺杂 Al 的钉扎效应稳定晶体结构。
Al 掺杂激活 V⁴⁺/V⁵⁺ 氧化还原对,实现 2.53 电子反应,提高容量。
Sn 作为局域电子库补偿 V 的电荷变化,动力学测试和 DFT 计算表明共掺杂提高了电子电导率并降低 Na⁺ 扩散势垒。