硅化物防护涂层
1000°C抗氧化
一种在VNbTa难熔多元合金表面通过包埋渗法形成的单相(VNbTa)Si₂涂层,同时提升高温抗氧化与磨损性能。
Qi, Wei · 张爱军 · Xin, Benbin · 韩杰胜 · Su, Bo · Wang, Xiaochao · 孟军虎
Journal of Alloys and Compounds 2024
具体参数
- 抗氧化温度
- {'zh': '1000', 'en': '1000'} °C
- 耐磨温度范围
- {'zh': '800-1000', 'en': '800-1000'} °C
技术优势
1000℃抗氧化
涂层在1000℃优先形成保护性SiO2膜,阻止基体氧化。
高温耐磨
涂层试件在800℃至1000℃保持理想的耐磨性。
涂层完整均匀
在优化的包埋渗工艺条件下获得均匀完整的涂层,且涂层主要由单相(VNbTa)Si2组成。
应用场景
- 高温结构件:涂层使VNbTa合金能在1000℃氧化环境下保持结构完整,可替代镍基高温合金。
- 耐磨涂层:该涂层在800–1000℃能同时抵抗氧化和磨损,减少因氧化磨损失效。
- 难熔高熵合金:为VNbTa难熔高熵合金提供高温氧化防护,拓宽其在含氧环境的使用窗口。
- 高温防护:通过形成SiO2保护膜有效阻挡氧扩散,保护易氧化的难熔合金基体。