硅化物防护涂层

1000°C抗氧化

一种在VNbTa难熔多元合金表面通过包埋渗法形成的单相(VNbTa)Si₂涂层，同时提升高温抗氧化与磨损性能。

Qi, Wei · 张爱军 · Xin, Benbin · 韩杰胜 · Su, Bo · Wang, Xiaochao · 孟军虎

Journal of Alloys and Compounds 2024

参数信息

抗氧化温度

1000 °C

耐磨温度范围

800-1000 °C

技术优势

1000℃抗氧化

涂层在1000℃优先形成保护性SiO2膜，阻止基体氧化。

高温耐磨

涂层试件在800℃至1000℃保持理想的耐磨性。

涂层完整均匀

在优化的包埋渗工艺条件下获得均匀完整的涂层，且涂层主要由单相(VNbTa)Si2组成。

应用场景

• 高温结构件：涂层使VNbTa合金能在1000℃氧化环境下保持结构完整，可替代镍基高温合金。
• 耐磨涂层：该涂层在800–1000℃能同时抵抗氧化和磨损，减少因氧化磨损失效。
• 难熔高熵合金：为VNbTa难熔高熵合金提供高温氧化防护，拓宽其在含氧环境的使用窗口。
• 高温防护：通过形成SiO2保护膜有效阻挡氧扩散，保护易氧化的难熔合金基体。