Nb–Ti–Si–Cr连续组分薄膜

1250°C 10min 不失效

以高通量组合方式一次性确定氧化保护膜成分窗口,取代逐点试错。

Yuwen, Pei · 江威 · 沙江波 · Zhou, Chungeng Gen

Journal of Materials Research and Technology 2024

参数信息

氧化温度
1250 °C
Si含量范围
9.34–32.31 at. %
Cr含量范围
10.43–20.27 at. %

技术优势

一次沉积锁定抗氧化窗口

通过三靶磁控共溅射获得连续成分梯度薄膜,在整片薄膜上同时评估不同成分的氧化行为,无需逐个制备合金。

1250 °C下形成保护性氧化膜

在1250 °C大气中氧化10 min后,薄膜表面生成由SiO2和CrNbO4组成的保护性氧化膜,并伴有少量Nb2O5。

应用场景