复合稀土抛光液

熔石英原子表面

一种新型绿色抛光液，能在熔融石英上同时实现亚纳米粗糙度和极高材料去除率，突破该材料加工中粗糙度与去除率的长期矛盾。

Xinting, Chen · 张振宇 · 陈雷雷 · 杨小飞 · Bingfeng, Ju · Weiting, Liu · 邓星桥 · Mengyi, Wang · Yongsong, Xu

Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects 2025

参数信息

表面粗糙度

0.07 nm

材料去除率

37.53 μm/h

损伤层厚度

3.25 nm

Ce³⁺ 浓度（添加 Er₂O₃ 后）

35.81 %

Ce³⁺ 浓度（添加 CC 后）

41.54 %

技术优势

粗糙度与去除率兼得

在获得0.07 nm的原子级表面的同时，材料去除率高达37.53 μm/h，二者均为已报道最优值。

损伤层极薄

透射电镜证实损伤层厚度仅为3.25 nm，有助于减少后续工序。

抛光液分散稳定

添加氯化胆碱后，抛光液分散指数和接触角降低，zeta电位绝对值增大，分散、稳定和润湿性同时改善。

绿色环保配方

采用无毒或低毒的化学添加剂，避免传统抛光液中的有害成分。

应用场景

• 精密光学元件加工：用于熔石英等光学元件的原子级表面加工，减少后续抛光工序。
• 半导体衬底抛光：可在半导体衬底上实现亚纳米粗糙度并保持高去除率，提高产率。
• 微流控芯片制造：为微流控芯片提供光滑表面，降低流动阻力并减少生物分子吸附。
• 高损伤阈值光学：极低损伤层厚度有助于提高光学元件的激光损伤阈值。