低曲率微电极阵列

精准植入深脑

通过背面干法刻蚀释放残余应力,实现腹侧被盖区等深部脑组织的精准植入,显著降低测量不确定性。

Wei, Xu · Wang, Mixia · Yang, Gucheng · Mo, Fan · Liu, Yaoyao · Jin, Shan · Jing, Luyi · 立明 · 刘军涛 · Shiya, Lv · Duan, Yiming · Meiqi, Han · Xu, Zhaojie · 宋轶琳 · 蔡新霞

Microsystems and Nanoengineering 2024

技术优势

植入更精准

低曲率设计通过背面干法刻蚀释放残余应力,组织学验证确认其提高了电极植入精度。

能记录到位置野

在VTA中观察到位置野,且当路径-结果关系改变时,这些位置野消失或重构,说明该电极能够捕获空间导航相关的神经编码。

应用场景