微锥织构化硅

可见光吸收率97.7%

在硅表面制备尖锐微锥阵列,通过光陷效应将可见光吸收率从41%提升至97.7%,并伴有非晶SiO₂辅助层。

杨瑞华 · Hongxin, Wang · Tang, Yiping · 78278893 · 李明 · 蔡玉奎

Surfaces and Interfaces 2026

具体参数

可见光吸收率
97.7 %
最佳激光能量密度
0.25 J/cm²
峰值算术平均曲率 (Spc)
26947.51 mm⁻¹
界面扩展面积比 (Sdr)
11.84

技术优势

吸收率近乎翻倍

微锥阵列通过光陷效应将光多次反射,使可见光吸收率从41%提升到97.7%,同时非晶SiO₂层起到辅助作用。

工艺参数明确

最佳激光能量密度为0.25 J/cm²,且表面粗糙度参数Spc和Sdr与吸收率高度正相关,可直接用于工艺优化。

一步成型

飞秒激光直接加工,无需掩模或化学处理,工艺简单,适合批量生产。

应用场景