四方相BaTiO₃抛光磨料

无需氧化剂原子级抛光

压电催化效应与机械磨削双重作用，原位产生活性氧将SiC凸起氧化为软质SiO₂，随后被机械去除，实现超光滑表面。

Hu Jun-Tao · Feng, Jinxi · Yan, Wen · 田双红 · Sun, Jingxiang · 刘晓盛 · Wei, Di · 王子铭 · 于洋 · Lam, Jason Chun Ho · Liu, Shaorong · Wang, Zhong Lin · 熊亚

Small 2023

具体参数

平均表面粗糙度

{'zh': '0.45', 'en': ''} nm

单晶

{'zh': '4', 'en': ''} H-SiC Si

单晶

{'zh': '4', 'en': ''} H-SiC C