等离子体电化学抛光件

局部粗糙度＜1 nm

等离子体活化与电化学腐蚀协同作用，实现复杂几何表面的高精度抛光。

曹修全 · Gaoyu, Xia · 刘金伟 · 余德平 · Peng, Zhang · Yupeng, He · Xiao, Chen · Baranowska, Jolanta · Franklin, Steven E.

Surface and Coatings Technology 2025

参数信息

表面粗糙度

1.0 nm RMS

技术优势

粗糙度跌破1 nm

在250 V电压下，局部区域表面粗糙度RMS降至1.0 nm以下，满足高端光学和精密仪器对表面质量的要求。

机理更清晰

动态监测证实材料去除主要由电化学溶解驱动，等离子体活化产生的活性氧物种形成氧化层反而会降低去除速率，这为工艺调控提供了明确依据。

适应复杂形状

PEP技术具有实现复杂几何高精度表面的潜力，等离子体与电化学作用共同加工，不受机械接触限制。

应用场景

• 精密表面加工：替代传统抛光，获得亚纳米级表面，减少后续修整。
• 复杂几何抛光：对复杂型面一次性均匀抛光，无需贴合工具。
• 高精度仪器部件：提供低粗糙度表面，保证光学和精密部件性能。