WSi₂–TaSi₂涂层

1600°C耐氧化

采用电沉积与包埋渗两步法制备的致密硅化物涂层，通过形成致密氧化层和匹配热膨胀，实现钽基底超高温长效防护。

Xiao L.R. · Xiao, Yuxiang · 赵小军 · Zhou, Xiaojun · Zhao, Gang · Zhong, Qi · Yu, Hua Li · Wang, Sen · Peng, Zhenwu · 蔡圳阳

Ceramics International 2023

具体参数

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技术优势

1600 °C静态氧化30 h有效保护Ta基底