ZIF-L分离薄膜

低温快速可控制备

通过调控电极表面结构单元浓度，首次实现亚稳态ZIF-L薄膜的阴极电沉积，为浓度敏感型MOF薄膜的制备提供了新途径。

Xie, Sijie · Tan, Xiaoyu · Chanut, Nicolas · Zhou, Zhenyu · 潘惠 · Vankelecom, I. F.V. · Fransaer, Jan

Angewandte Chemie - International Edition 2025

具体参数

H₂/N₂选择性

19.4

H₂渗透率

360 GPU

技术优势

浓度可控

通过原位pH测量和理论计算，揭示了表面金属节点和配体浓度对ZIF-L成膜的影响，进而提出调控策略。

快速室温制备

该方法能够在室温下快速完成ZIF-L薄膜的阴极沉积，无需高温或长时间处理。

分离性能优异

经PDMS修饰后，电沉积的ZIF-L薄膜在AAO基底上获得H₂/N₂选择性19.4和H₂渗透率超过360 GPU。

应用场景

• 气体分离膜：用于H₂/N₂等气体混合物的分离，替代传统能耗高的分离工艺。
• MOF薄膜：提供一种浓度敏感型MOF薄膜的制备新途径，如ZIF-L。
• 氢气纯化：从混合气中提纯氢气，用于燃料电池等高纯氢应用。
• 分子筛薄膜：ZIF-L的分子筛分效应实现小分子气体（如H₂）优先透过。