添加剂诱导铜微矩形结构

纯度超99.7%

采用添加剂诱导局部电沉积微增材制造，通过协同调控诱导纳米孪晶形成，实现微米级矩形结构的高效高纯制备。

Zhaoqiang, Zou · 许金凯 · Ren, Wanfei · Manfei, Wang · Xu, Zhenming · Wang, Xue · Hanhan, Wei · Yan, Huo · 于化东

Journal of Materials Processing Technology 2023

具体参数

铜含量

{'zh': '99.7', 'en': '99.7'} %

结构尺度

{'zh': '10–50', 'en': '10–50'} µm

技术优势

纯度超99.7%

矩形结构仅含铜和氧两种元素，无其他杂质。

一步成形微矩形

添加剂协同调控电沉积过程，实现10–50 µm尺度的矩形实心结构直接制造，无需后续加工。

诱导纳米孪晶

添加剂协同作用在电沉积过程中诱导形成纳米孪晶，改善材料性能。

应用场景

• 微纳制造：直接制造高纯度铜微矩形结构，替代传统多步工艺。
• 光学工程：提供10–50 µm微结构，用于光学元件制造。
• 精密仪器：制造高精度微矩形零件，满足精密仪器需求。
• 生物工程：提供生物工程所需的微尺度金属结构。