缺陷修复加界面保护
通过单宁酸-硫脲协同修复锂损失和铁(III)相,并在低温下构建氮硫共掺杂碳层,同时提高导电性和结构稳定性。
Yang, Cao · 李峻峰 · Tang, Di · 周飞 · 袁萌伟 · Yanfei, Zhu · Ruyu, Shi · 魏锡均 · Wang, Boran · 宋英泽 · Hui-Ming, Cheng · 周光敏
Advanced Materials 2024
1C下1000次循环后容量保持率72%