应变WS2单层

二次谐波增强近万倍

由Si/Au纳米腔诱导的非均匀应变的WS2单层，其二次谐波产生强度比未应变单层提升约9649倍，且增强表现出高度各向异性。

Liu, Shimei · 林圳旭 · Mao, Yuheng · Li, Shulei · Panmai, Mingcheng · 李贵新 · 兰胜

Laser and Photonics Reviews 2025

具体参数

二次谐波产生强度增强

约9649 倍

技术优势

增强表现出高度各向异性