铟注入CdS微丝

光响应提升百倍

对CdS微丝进行铟离子注入修复本征缺陷,显著增强其光电探测性能。

Zhao, Xiaoyu · Wang, Xuefeng · 郭帅 · Wu, Mengxuan · Quan, Sufeng · Zheng, Ma

Journal of Physics D: Applied Physics 2024

参数信息

响应度
390 mA W⁻¹
外量子效率
119 %
比探测率
3.82 × 10⁷ Jones
衰减时间
652 ms

技术优势

响应度提升近百倍

铟离子注入修复了CdS微丝中的本征缺陷,减少了载流子复合中心,从而使光电探测器的响应度和外量子效率大幅提高。

响应速度加快

衰减时间从原始器件的3.82 s缩短至652 ms,表明铟离子注入有效抑制了陷阱态导致的慢衰减过程,使光电流能够更快达到稳态。

制备方法通用

CdS微丝采用化学气相沉积法合成,铟离子注入为常规工艺,无需复杂设备,有利于规模化制备高性能光电探测器。

应用场景