低温等离子体处理装置

低剂量促增殖

该装置产生的活性氧氮物种能在低剂量下促进牙周膜成纤维细胞增殖,并显著抑制牙龈卟啉单胞菌。

Xiaojiao, Zhang · Li, Yinglong · 马若男 · 陈志同 · 王瑞雪 · 王左敏

Plasma Chemistry and Plasma Processing 2024

参数信息

抑制牙龈卟啉单胞菌所需处理时间
6 min
促增殖处理时间范围
1, 2, 4, 8 min
抑制增殖处理时间
16 min

技术优势

抑菌只需6分钟

对牙龈卟啉单胞菌处理6分钟后抑制效果显著,缩短椅旁治疗时间。

低剂量促增殖

1–8分钟处理可提高牙周膜成纤维细胞增殖,利于组织愈合。

机制明确

效应主要源于活性氧氮物种(RONS)的形成,便于优化参数。

应用场景