氨法拉第效率96%
镓单原子稳定Cu+-Cu0界面位点,优化中间体吸附并加速加氢动力学,在安培级电流下保持高新能。
Jinxuan, Wu · 徐勇 · Jinyang, Zhang · 长计划 · Chen, Kun · Chen, Pengzuo · 童芸
Angewandte Chemie - International Edition 2026
Ga位点促进活性氢供应并加速相邻Cu位点上的加氢动力学,使得NH₃法拉第效率达到96.21%。
强Ga-O-Cu配位结构稳定了Cu⁺物种,使催化剂在-0.5 A cm⁻²的高电流密度下仍保持高耐久性。