多曝光均质化熔融石英玻璃

拼接无缝，不开裂

通过多曝光均质化显著降低投影能量梯度，实现单投影系统下大尺寸熔融石英玻璃的无缝拼接制造。

Zhao, Shaoqing · 77547742 · Yuxuan, Cong · Yanping, Chen · Jiatong, Liu · 黄龙 · 邓伟杰 · 张刘 · 刘禹晴 · 刘华

Ceramics International 2026

参数信息

曝光能量不均匀性

8.26 %

表面误差

4 μm

技术优势

拼接不开裂

通过像素级步进移动实现部分重叠多曝光，弥补接缝处能量不足，避免热处理中因不均匀收缩产生裂纹。

表面精度高

拼接区域表面误差控制在 4 μm 以下，满足精密光学和微流控器件的要求。

能量更均匀

曝光能量不均匀性从 16.92% 降到 8.26%，提高了固化一致性和构件质量。

应用场景

• 大尺寸光学元件：实现大尺寸光学元件的无缝拼接制造，避免传统拼接引起的性能劣化和开裂。
• 微流控芯片：提供高精度、无裂纹的玻璃芯片基材，保证微通道完整性和光学透明度。
• 玻璃3D打印：克服 DLP 投影能量不均的固有缺陷，使单投影系统也能打印大尺寸复杂玻璃结构。
• 精密玻璃器件：拼接区表面误差低于 4 μm，满足精密玻璃器件的形状和表面质量要求。