黑磷修饰NiFeB纳米片

抑制铁流失

通过电子相互作用抑制表面重构过程中的铁流失,促进羟基氧化镍活性物种形成,从而增强催化界面稳定性并提升析氧反应动力学。

Zehao, Wang · Chen, Huayu · Yesheng, Fu · Yin, Hang · Yu, Dandan · Liang, Junhui · 黄岳祥 · Liuqi, Wang · Wei, Gao · 陈达 · 侯阳

Chemical Engineering Journal 2025

具体参数

析氧反应过电位
{'zh': '221', 'en': '221'} mV

技术优势

铁流失受抑制

乙二胺插层黑磷与Ni₁.₅Fe₀.₅B的电子相互作用有效减少表面重构过程中铁的过度溶出,使催化界面更稳定。

活性物种生成更易

稳定的表面有利于羟基氧化镍活性物种的生成,从而增强析氧反应动力学。

过电位低至221 mV

在10 mA cm⁻²电流密度下过电位仅为221 mV,催化活性优于常规析氧催化剂。

应用场景