氧空位双金属电极

过电位仅132 mV

独创等离子体电解氧化法在钛基底上制备含氧空位的MoOx-TiOx涂层,兼具低过电位与强附着力。

Wenxian, Lu · Wenduo, Yang · Haijin, Zhang · Hanze, Jia · Beissenov, Renat E. · Dahang, Ma · Ao, Lang · Li, Jing · Liu, Baodan

International Journal of Hydrogen Energy 2025

具体参数

过电位
{'zh': '132', 'en': '132'} mV

技术优势

制备又快又便宜

等离子体电解氧化是一种表面处理方法,可在工业规模下快速制备,且成本低廉。

过电位低

双氧空位结构增强了析氢反应催化活性,使10 mA/cm²下过电位降至132 mV。

涂层结合牢固

涂层与钛基底结合牢固,确保电极在长期运行中结构稳定,不易脱落。

应用场景