超高氢气响应
结合氢溢出与氧空位协同效应，实现低温下对氢气的高灵敏快速检测。
Liang-Yu, Ma · Yue, Lijuan · 巩飞龙 · 谢克锋 · Yang, Xuanyu · 魏世忠 · 张永辉
Sensors and Actuators, B: Chemical 2025
Ar处理样品在160°C、50 ppm下响应达8645，远高于O₂处理样品，归因于Pd位点解离氢和溢出效应形成氧空位及HₓMoO₃提升电子迁移率。
响应时间仅3秒，恢复时间49秒，可实现快速检测和恢复，适用于需要快速警报的场合。
最佳工作温度仅160°C，低于传统金属氧化物半导体传感器通常的300-400°C，有利于降低功耗和提高安全性。