CeO₂·SiO₂复合绝缘层

显著降低涡流损耗

该复合绝缘层通过选择性氧化工艺在FeSiCr颗粒表面原位形成，相比单一CeO₂绝缘层能更有效地抑制颗粒间涡流损耗。

Huang, Huaqin · Wang, Jian · Zhenghao, Cui · Gao, Zihan · 黄贞益 · Wu, Zhaoyang

Materials and Design 2023

具体参数

饱和磁化强度

153.1 emu/g

压坯降低

10.9 %

技术优势

磁导率高度稳定

涡流损耗降低