Fe3O4/SiO2核壳磨料

磁流变抛光专用

在磁流变抛光中通过剪切作用高效去除蓝宝石表面化学产物层，实现原子级光滑表面。

Zhai, Quan · 翟文杰 · Tianhe, Deng

Applied Surface Science 2023

技术优势

剪切主导去除

切向力在材料去除中起主要作用，磨粒对化学产物层的剪切作用占主导。

协同去除机制

材料去除是表面化学反应与化学产物层塑性变形和剪切去除的联合作用。

应用场景

• 光学元件超精密加工：获得原子级光滑蓝宝石表面，用于高精度光学窗口和衬底。
• 精密抛光耗材：作为磁流变抛光液添加剂，替代传统磨料以高效去除化学反应层。
• 硬脆材料表面处理：通过化学软化与剪切去除协同，减少硬脆材料表面损伤。