原位组装免酸刻蚀
通过原位界面组装同时实现SiO₂模板刻蚀与碳层形成，将低活性单原子催化剂转化为高性能表面限域铂纳米反应器。
张健康 · Li, Shuo · 秦勇 · Hu, Jinlong
ACS Nano 2026
利用聚四氟乙烯在高温下释放的氟物种原位刻蚀SiO₂模板，无需使用氢氟酸等危险酸/碱。
SiO₂刻蚀与碳层形成在同一原位界面组装过程中完成，省去了传统方法中刻蚀和负载的多步操作。
从低活性的PtSA@SiO₂转化为高活性的PtSA+NP@HPCS，得益于多级有序孔隙带来的连续质量传输和活性金属-载体相互作用。
该合成策略可扩展到非贵金属-碳纳米反应器的直接合成，具有通用性。