Sm³⁺掺杂氧化镥纳米闪烁体

低余辉 · 高成像分辨率

通过Sm³⁺共掺抑制Pr⁴⁺陷阱，显著降低了余辉并增强了辐射发光，实现了高清晰度X射线成像。

Song, Jia · Biying, Bao · Wang, Shuai · Yang, Jian · 祝汉成 · Yan, Duanting · 刘春光 · 徐长山 · 刘玉学

Journal of Luminescence 2023

具体参数

平均粒径

{'zh': '112.3', 'en': '112.3'} nm

余辉水平

{'zh': '2190', 'en': '2190'} ppm

响应时间

{'zh': '185.7', 'en': '185.7'} μs

空间分辨率

{'zh': '5.5', 'en': '5.5'} lp/mm

剂量

{'zh': '4.6', 'en': '4.6'} μGy

技术优势

余辉骤降

Sm³⁺共掺杂抑制了Pr⁴⁺的形成，减少了电子陷阱，从而大幅降低余辉。

低剂量高清成像

在4.6 μGy的极低安全剂量下实现了5.5 lp/mm的空间分辨率，适用于医学和无损检测。

响应快速

响应时间仅185.7 μs，有利于动态成像。

应用场景

• X射线成像屏：复合薄膜可直接用作X射线成像屏，实现低剂量高清成像。
• 医学成像：低剂量成像特性使其适用于需要减少辐射暴露的医学诊断。
• 无损检测：高分辨率可清晰检测物体内部缺陷，如破损电线。
• 闪烁体材料：低余辉、快响应和高光输出使其成为高性能闪烁体候选。