低热收支金刚石膜HFCVD装置

节能28.4%,成膜更均匀

通过工作台材料更换与铜屏蔽圈插入,显著降低热耗散并改善衬底温度均匀性,使金刚石膜在多衬底上沉积更均匀。

王新昶 · Enzhi, Liu · Weihan, Li · Qiao, Yu · 孙方宏 · Da, Shu

Journal of Cleaner Production 2024

参数信息

节能率(实验装置)
28.4 %
节能率(商用装置)
27.4 %
灯丝温度
2200 °C

技术优势

省钱

通过降低热传导和屏蔽热辐射,直接减少电耗,因而合成成本下降。

均匀性提升

衬底温度分布更均匀,保证了同批次多衬底上金刚石膜厚度与质量一致。

工艺窗口稳定

在降低功率的同时将灯丝温度保持在约2200 °C,金刚石生长的化学环境不变。

应用场景